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    技術研發

    真空電子束提純熔煉EB爐熔煉工藝簡要說明

    發布時間:2025年06月20日 09:43:28

    在很多應用環境下,對金屬的純度有較高的要求,其冶煉與純化過程非常重要。真空電子束熔煉是目前效果最好的提純金屬的方法,它可以使雜質從熔體表面和內部揮發,幾乎可以除去全部氣體元素、較低熔點金屬,以及大部分高熔點金屬。真空電子束熔煉過程中,雜質元素的揮發速度與多種因素有關,同時電子束熔煉過程中熔煉速度、真空度、功率等的控制對物料的精煉效果影響明顯,合理的熔煉工藝是金屬精煉提純的關鍵。

    1.電子槍掃描的精確控制能夠確保電子束能量合理地分配到電極和熔池上,保持熔池溫度均勻和電極與熔池的物料平衡,使熔池較淺,晶粒尺寸小而均勻。熔煉各個時期的功率對鑄錠質量的一致性非常重要,確定合理的功率變化,可提高鑄錠質量及減少鑄錠頂部的縮孔、疏松組織等;

    2.電子束熔煉速度對鑄錠雜質去除有直接影響。不同的熔煉速度條件下鑄錠對應的氣體雜質具有一定的差別,且熔煉速度越快則雜質含量越高。因此確定鑄錠的熔煉速度不應超出一定范圍;

    3.鑄錠通過皮爾格運動方式來鑄錠,通過控制其上下運動時間來控制拉錠速率。在保證拉錠速度與熔化速度相適應的同時,研究合適的拉錠工藝能夠保證熔煉過程的平穩和整根鑄錠熔煉工藝一致,減少人為手動操作,有效控制鑄錠表面質量,都有利于避免產生內部缺陷,保證鑄錠的化學成分和組織均勻一致性。


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